der Aixtron Hompage. Es handelt sich doch um interessante News.
Gruß h.
Press Release
Atomic Level Solutions von AIXTRON
Ein weiterer führender taiwanesischer Chip-Hersteller wählt StrataGem-300mm-
ALD-Produktionsanlage von Genus für die moderne DRAM-Fertigung
Aachen, 13. September 2005 - ProMOS Technologies (Hsin-chu Science Park, Taiwan) hat mit Genus, Inc. (Sunnyvale, USA), einem Unternehmen der AIXTRON-Gruppe (FSE: AIX, ISIN DE0005066203; NASDAQ: AIXG), eine Auftragsvereinbarung für eine ALD-Fertigungsanlage geschlossen. Die Anlage wird zunächst für die Massenfertigung moderner Speichergeräte in 90nm-Technologie im neuen, im Central Taiwan Science Park gelegenen ProMOS-Werk, Fab 3, eingesetzt.
"Wir haben uns für Genus entschieden, weil das Unternehmen auf dem 300mm-DRAM-Markt im Bereich Fertigung und Service einen hervorragenden Ruf genießt. Darüber hinaus hat ProMOS einen Technologie-Innovator gesucht, der uns dabei helfen kann, unsere hohen technischen Anforderungen schnell zu erfüllen. Die Anlage war sehr schnell installiert und funktioniert bislang tadellos. Dass die CVD- und ALD-Anlagen von Genus auf ein und derselben Plattform und mit ein und demselben System arbeiten, erleichtert uns den Betrieb und die Wartung", so Dr. Len Mei, Senior Vice President von ProMOS Technologies.
Die 300mm-ALD-Anlage wird künftig auch für die Fertigung moderner DRAM-MIM-Filme im Sub-70-nm-Bereich und darüber eingesetzt. Dieser Auftrag ist ein weiteres Beispiel für die zunehmende Akzeptanz der Genus-ALD-Prozess-Technologie und zeigt, dass die AIXTRON-Gruppe in der Lage ist, den Markt mit modernsten Technologien zu beliefern. AIXTRON konzentriert sich zurzeit auf die Erhöhung seines Halbleiter-Kundenbestands auf dem taiwanesischen Markt.
Der ALD-Markt ist von wachsender Bedeutung für die Entwicklung und Integration neuer Materialien, die Fertigungslösungen für Halbleiterbauelemente mit kritischen Anforderungen ermöglicht. Neuen innovativen ALD-, AVD®- und MOCVD-Depositionstechnologien von AIXTRON wird eine rasche Entwicklung vorausgesagt, da sie den Einsatz dieser Materiallösungen vorantreiben.
Darüber hinaus erhielt Genus, Inc. von ProMOS Technologies einen Folgeauftrag für die Lieferung moderner 300-mm-CVD-Systeme. Genus, Inc. erhielt diesen Folgeauftrag drei Monate nach Lieferung des ersten Systems an dieses moderne 90-nm-DRAM-Werk. Die Anlage wird eine schnelle Fertigung ermöglichen und im dritten Quartal dieses Jahres ausgeliefert.
In der Vergangenheit haben AIXTRON und Genus, Inc. sehr enge und langfristige Geschäftsbeziehungen mit vielen Kunden aus der asiatischen Halbleiterindustrie geknüpft. Durch die Übernahme von Genus, Inc. hat die AIXTRON-Gruppe einen weiteren Schritt getan, um die kritische Masse zu erreichen, die für die Entwicklung einer Vielzahl modernster Halbleiter-Technologien (d.h.: ALD, AVD®, CVD) im Bereich unterhalb von 90-nm erforderlich ist.
Für die Kunden ist der Hsin-chu Science Park als Standort für die taiwanesische Niederlassung von AIXTRON ideal, um maßgeschneiderten Service liefern und gezielt auf die Bedürfnisse der einzelnen Kunden eingehen zu können, was auch eine Zusammenarbeit im Bereich Forschung und Entwicklung einschließt.
Auf der Semicon Taiwan (12. - 14. September 2005) wird die AIXTRON-Gruppe die Gelegenheit nutzen, um die technischen Ergebnisse der beteiligten Entwicklungsteams zu präsentieren (Stand Nr. 584, 2238). AIXTRON-Vorstandsmitglieder werden an dieser Veranstaltung teilnehmen, um die erweiterte AIXTRON-Gruppe vorzustellen und wertvolle Informationen aus der Branche auszutauschen und über die Herausforderungen innerhalb der taiwanesischen Halbleiterindustrie zu sprechen. Weitere Informationen über AIXTRON erhalten Sie unter www.aixtron.com.