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TSMC verzichtet auf neueste ASML-Systeme wegen Kosten

FRANKFURT (dpa-AFX) - Der Chipausrüster ASML muss einen Dämpfer hinnehmen. Sein prominentester Kunde, der taiwanische Halbleiterhersteller TSMC , will auf ASML-Lithografiesysteme der neuesten Generation zunächst verzichten, um Kosten zu sparen. Ein Einsatz der modernen Systeme sei derzeit nicht geplant, erklärte Kevin Zhang, stellvertretender Co-Chief Operating Officer von TSMC gegenüber Journalisten. Die Aktie von ASML geriet am Donnerstag im frühen Handel unter Druck und fiel um 2,3 Prozent.

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Blick auf das Werk der Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC).
Quelle: - ©TSMC:
ASML Holding NV 1.253,8 € ASML Holding NV Chart +3,06%
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TSMC wolle mit den aktuellen Ultraviolett-Lithografie-Anlagen (EUV) weitermachen, so Zhang. Er fügte hinzu, die EUV-Maschinen der neuesten Generation seien "sehr, sehr teuer". So sollen die neuesten Systeme mehr als 410 Millionen Dollar (Dollarkurs) (350 Mio Euro) pro Stück kosten, während das Einstiegsniveau für EUV-Litografiesysteme derzeit bei mehr als 200 Millionen Dollar liegt. Laut Bloomberg-Daten ist TSMC der größte Kunde von ASML.

ASML hat bisher in Aussicht gestellt, dass die Anlagen 2027 und 2028 in die Serienproduktion gehen werden. Sie sollen helfen, den Umsatz bis 2030 auf bis zu 60 Milliarden Euro zu treiben. Die Technologieentscheidungen von TSMC haben weitreichende Auswirkungen auf die Halbleiterindustrie. Das Unternehmen ist der größte Abnehmer von Ausrüstung und verfügt über das größte Budget für neue Werke und Anlagen. TSMC ist außerdem führend bei Fertigungstechniken, die häufig von Wettbewerbern nachgeahmt werden.

Die neuesten EUV-Systeme von ASML sollen vor allem für die Produktion von KI-Chips von Vorteil sein. TSMC hat eigenen Angaben zufolge eine sehr geringe Anzahl dieser Anlagen gekauft, sie aber bisher nur für Forschungszwecke und nicht für die Massenproduktion eingesetzt. Zhang erklärte, das Unternehmen suche nach Möglichkeiten, seine Chips auch ohne die neuen hochauflösende EUV-Anlagen herzustellen./nas/lew/stk


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