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EUV-Lithografie-Technologie: Top-Manager: China liegt 15 Jahre in der Chipfertigung zurück

wallstreetONLINE Redaktion  | 
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Eine Flüssigkeit im UV-Licht. (Symbolbild)
© pixabay.com/CC0: www.pixabay.com
China liegt bei der Entwicklung modernster Anlagen zur Chipfertigung nach Einschätzung eines Top-Managers des Zeiss-Konzerns rund eineinhalb Jahrzehnte zurück.ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology aus Oberkochen ist ein wichtiger Zulieferer der globalen Halbleiterindustrie. Es sei eine "vernünftige Annahme", dass China 15 Jahre benötigen werde, um Anlagen für die EUV-Lithografie (Extreme Ultraviolet) zu entwickeln, sagte Frank Rohmund, der bei Zeiss die Halbleitersparte leitet, im Gespräch gegenüber Bloomberg TV am Mittwoch. Zugleich betonte er, dass sich die Fortschritte Chinas nur schwer quantifizieren ließen. Technologien zur Chipfertigung sind ein zentrales Ziel der …
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