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Zeiss-Manager schätzt Chinas Rückstand bei EUV-Lithografieanlagen auf etwa 15 Jahre

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Ein Zeiss-Manager schätzt, dass China etwa 15 Jahre benötigt, um EUV-Lithografie-Anlagen für die Chipfertigung zu entwickeln.

Laut Frank Rohmund, Leiter der Halbleitersparte des Zeiss-Konzerns, hinkt China bei der Entwicklung modernster Anlagen zur Chipfertigung, insbesondere der EUV-Lithografie, etwa 15 Jahre hinterher. Zeiss ist ein zentraler Zulieferer der globalen Halbleiterindustrie. Trotz der Schwierigkeit, Fortschritte exakt zu quantifizieren, wird dieser zeitliche Rückstand als vernünftige Annahme eingestuft, während die Technologie ein Kernpunkt der US-Bemühungen zur Eindämmung Chinas bleibt.

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